三星、ASML合建研发中心预计2027年引进High-NA EUV设备
【三星、ASML合建研发中心预计2027年引进High-NA EUV设备】三星电子与ASML共同在韩国投资的半导体先进制程研发中心预计自2027年起引进High-NA 极紫外光（EUV）设备。该研发中心是为High-NA EUV而兴建，总投资金额1兆韩元，最快于2027年引进设备，因需经过许可流程，最快将于2024年12月或2025年动工。三星表示，目前High-NA EUV仍处于审查推出时机的阶段，将根据市场状况及客户需求决定方向。
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