日企开发不含PFAS化学品的新半导体材料 可用作光刻胶添加剂
【日企开发不含PFAS化学品的新半导体材料 可用作光刻胶添加剂】据《科创板日报》消息，日本油墨生产商DIC开发了一种不含PFAS化学品的半导体材料。DIC开发的新材料是一种表面活性剂，用作半导体光刻胶的添加剂，可以降低固体和液体的表面张力。DIC的新产品不使用氟，但在与材料混合时抑制表面张力和产生光滑薄膜的能力方面比传统产品表现得更好。
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